0
04136674922
لیست مطالب
PVD-chamber_asremavad

رسوب فیزیکی بخار یا PVD

رسوب فیزیکی بخار (Physical Vapor Deposition) که با نام PVD شناخته شده است، فرایند پوشش دادن سطح در خلاء است که از دو مزیت عمده تبخیر در خلاء و پراکنش در سطح بهره می برد. در این روش، مواد به ...
turbine blade_asremavad

افزایش قابل توجه عمر پره های توربین با پوشش‌ دهی نانو به روش PVD

یک شرکت ایرانی موفق به پوشش‌دهی سطح پره‌های توربین چند شرکت داخلی شده است که با این کار عمر پره‌های توربین افزایش قابل توجهی یافته است. این پوشش‌دهی با دستگاه PVD انجام شده است.     حسن علم‌خواه، رئیس هیئت‌مدیره ...
pvd_sputter_asremavad

روش های مهم تولید بخار در فرایند PVD یا رسوب دهی فیزیکی از فاز بخار

مهندسی سطح که شاخه ­ای از علم مواد می ­باشد، کاربردهای گسترده ­ای در مهندسی مکانیک، مهندسی برق، مهندسی شیمی و پتروشیمی دارد. صنایعی مانند نفت، گاز و پتروشیمی، خودروسازی، هوا فضا، فولاد، سیمان، ماشین ابزار، نساجی و ... به ...
Physical Vapor Deposition_asremavad

اصول رسوب دهی فیزیکی بخار در فیلم‎های نازک + هندبوک

اصولاً لایه نازک به لایه ‎ای اطلاق می شود که ضخامت آن در محدوده کسری از نانومتر تا یک میکرون باشد. تاریخچه استفاده از لایه های نازک به حدود 3400 سال پیش بر می‎گردد اما استفاده از این دانش در ...
design_thin_film_vst-omegacam-monte

پوشش های لایه نازک – مفهوم، دلایل استفاده و کاربرد آن ها

مفهوم لایه ی نازک:   لایه ی نازک (Thin Film) معمولاً به لایه ای اطلاق می شود که ضخامت آن حدوداً کمتر از یک میکرون (معمولاً زیر نیم میکرون) باشد. لایه، پوششی است که به صورت اتم ها، مولکول ها ...